型號：
MMA
主要成分：
乳酸乙酯 75-100% CAS 97-64-3
2-甲基-2-丙烯酸與2-甲基-2-丙烯酸甲酯的聚合物 5-25% CAS 25086-15-1
原理與使用方法：
共聚物光刻膠是基于 PMMA 和 ~8.5% 甲基丙烯酸的混合物。共聚物MMA（8.5）MAA通常與PMMA結(jié)合使用，用于雙層剝離光刻膠工藝，其中需要獨立控制每個光刻膠層的CD尺寸和形狀。標準共聚物光刻膠由乳酸乙酯配制而成，具有多種膜厚范圍。MMA（8.5）MAA聚合物電子束正膠具有非常高的靈敏度（數(shù)倍于PMMA）因此可以在曝光顯影后獲得較寬的結(jié)構(gòu)。這是由于在顯影過程中光刻膠的溶解速率的巨大差異，從而產(chǎn)生所需的抗蝕劑側(cè)壁輪廓，而一般來說，溶解速率隨著分子量的減小而增加。這種對比可能會受到各種工藝策略的進一步影響。
使用方法：
1、基材應清潔干燥。推薦使用溶劑、O2等離子和O3清潔。
2、根據(jù)膜厚與旋轉(zhuǎn)速度曲線，選擇合適的MMA稀釋度和旋轉(zhuǎn)速度以達到所需膜厚。
3、軟烘。熱板150°C 60 - 90s或烘箱140°C 30分鐘。
4、曝光。電子束劑量：50 - 500μC/cm2，取決于輻射源/設(shè)備和使用的顯影劑；20-50kV，kV越高，分辨率越高；DUV(深紫外)：低靈敏度，劑量>500mJ/cm2，λ=248nm；x射線：PMMA的靈敏度很低，在8.3?處約為1-2 J/cm2，x射線波長越長，靈敏度越高。最小特征尺寸<0.02μm。
5、顯影。可使用浸沒式（21℃）、噴淋式和攪拌式三種工藝模式。需根據(jù)工藝變量，優(yōu)化顯影條件以達到理想的結(jié)果。
6、沖洗及干燥。為了終止顯影過程并防止結(jié)塊，應在顯影后立即將共聚物光刻膠浸入或噴灑1:3或1:4的MIBK:IPA，酒精或去離子水。基材通常以3000rpm旋轉(zhuǎn)干燥20秒或N2吹干。
7、堅膜（可選）：從光刻膠圖案上去除殘留的顯影劑、漂洗液和水分。熱板：100°C 60 - 90s，烘箱95°C 30min。注：PMMA圖像將在125℃以上回流。
8、去膠：聚物光刻膠可以通過使用MCC的Remover PG或標準潔凈室溶劑(如丙酮、光刻膠稀釋劑或正性光刻膠去除劑)去除。經(jīng)過較高加工溫度和/或堅膜的光刻膠將需要ACRYL STRIP或更積極的去除工藝。包括用去膠液PG水浴加熱，以確保光刻膠被充分的去除。
儲存:
確保工作間有良好的通風、排氣裝置。
防止氣溶膠的形成。
放入密封的貯藏器，儲存在陰涼、干燥的地方。
使用防爆炸的設(shè)備或裝置和防火花的工具。
遠離火源，禁止吸煙。
防靜電。
上一個產(chǎn)品：沒有了
下一個產(chǎn)品：PMMA去膠液
