產(chǎn)品分類：
(1) 高純金屬材料
鋁(AI)；鉻(Cr)；銅(Cu)；鍺(Ge)；鎵(Ga)；鉿(Hf) ；銦(In)；鎳(Ni)；硅(Si)；鉑(Pt)；錫(Sn)；鈦(Ti)；銀(Ag)；金(Au)
(2) 氧化物
氧化鋁(AI2O3)；氧化鉿(HfO2)；氧化銦錫(ITO)；氧化鈮(Nb2O5)；氧化鈦(Ti3O5)；氧化鉭(Ta2O5)
(3) 硒化物
硒化鎘(CdSe)；硒化鋅(ZnSe)
(4) 硫化物
硫化鋅(ZnS)
(5) 氟化物
氟化鐿(YbF3)；氟化鈰(CeF3)；氟化鋇(BaF2)
應(yīng)用說(shuō)明：
用于蒸發(fā)沉積各種功能薄膜的貴金屬材料。廣泛應(yīng)用于微電子、光電子、信息存儲(chǔ)、光學(xué)鍍膜和裝飾等行業(yè)。
蒸發(fā)鍍膜常稱真空鍍膜。其特點(diǎn)是在真空條件下，材料蒸發(fā)并在玻璃表面上凝結(jié)成膜，再經(jīng)高溫?zé)崽幚砗?，在玻璃表面形成附著力很?qiáng)的膜層。有70 多種元素、50 多種無(wú)機(jī)化合物材料和多種合金材料可供選擇。
PVD工藝的首要條件是在真空條件下操作,因?yàn)橄蘖恳陨系臍堄鄽怏w會(huì)影響膜的成分和性質(zhì)。為了實(shí)現(xiàn)鍍膜工藝，要求殘余氣體的壓力為0.1～1Pa。
