名稱(chēng)：
多片陶瓷方片噴涂
用途：
在光電行業(yè)或射頻行業(yè)中，會(huì)使用陶瓷基板來(lái)制作薄膜電路。用于兩寸和四寸等小尺寸的方片的光刻膠涂覆。
核心工藝：
特點(diǎn)：
提高光刻膠涂覆效率：使用旋涂工藝對(duì)兩寸陶瓷方片進(jìn)行光刻膠涂覆時(shí)，效率較低。如果使用噴膠機(jī)，可以同時(shí)對(duì)多片基板進(jìn)行噴涂，不僅提高了涂覆效率，還能保證膠厚均勻性，同時(shí)節(jié)省光刻膠，大部分光刻膠會(huì)均勻地留在基板上。
提高光刻良率：方形襯底旋涂無(wú)法保證四角和邊緣的厚度，會(huì)出現(xiàn)很?chē)?yán)重的厚膠邊，同時(shí)會(huì)降低中心區(qū)域的工藝容差（比如分辨率會(huì)下降），從而影響光刻效果，這會(huì)嚴(yán)重影響產(chǎn)品的一致性和良率。
