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名稱：

雙層SU8光刻

用途：

1、多層微結(jié)構(gòu)制造

用于制造具有多層結(jié)構(gòu)的微納器件，如微流控芯片、微透鏡陣列等。在微流控芯片中實現(xiàn)不同高度和復(fù)雜網(wǎng)絡(luò)的微通道設(shè)計。

2、三維微結(jié)構(gòu)

用于光學(xué)器件中的微透鏡陣列、光波導(dǎo)等三維結(jié)構(gòu)。實現(xiàn)具有三維特征的復(fù)雜微結(jié)構(gòu)設(shè)計。

核心工藝：

1、雙二層SU-8涂覆

難點：確保第二層膠層涂覆均勻且不破壞第一層膠層，控制層間界面質(zhì)量。

2、重復(fù)預(yù)烘烤、曝光、后烘烤和顯影

難點：兩層結(jié)構(gòu)之間的對準(zhǔn)精度、曝光能量的匹配、層間結(jié)合的牢固性。