定義：
掩模版（Photomask），又稱光罩、光掩模、光刻掩模版等；是微電子、集成光電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版，常用規(guī)格為3-9英寸，常用材料為蘇打玻璃/石英玻璃材料，不同規(guī)格的尺寸與厚度有區(qū)別，需根據(jù)用戶要求定制；其中不透光區(qū)域的材料通常為鉻，所以俗稱鉻版；鉻層厚度約為0.1μm，用作芯片制造中較高精度的光掩模。
參數(shù)及價(jià)格：
流程：
產(chǎn)品詳情
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