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型號：

MICROPOSITR MF-319 DEVELOPER

主要成分：

水 ＞95% CAS 7732-18-5

表面活性劑 ＜1%

四甲基氫氧化銨 2.2% CAS 75-59-2

原理與使用方法：

MF-319顯影液專門用于高分辨率半導(dǎo)體器件。它是S1400?和S1800?系列光刻膠的專用無金屬離子的顯影液。雖然MF-319顯影液可以用于浸泡顯影、旋噴顯影，但最理想的顯影方式是噴霧式或者puddle式顯影。

儲存:

存儲在干燥區(qū)域，溫度范圍為50°-90°F（10°-32°C）。

遠離酸、陽光、熱源和火源。

放入密封的貯藏器。