型號(hào)：
Resist Developer RD6
主要成分：
水 >90% CAS 7732-18-5
四羥基氫氧化銨<3% CAS 75-59-2
原理與使用方法：
Resist Developer RD6是一種水性無(wú)金屬離子光刻膠顯影劑，適用于負(fù)膠NR1, NR5, NR7和NR9系列和正膠PR1系列。也是去除PC4系列的暫時(shí)黏附，保護(hù)，及平坦化的材料。Resist Developer RD6利用光刻膠曝光區(qū)域與未曝光的區(qū)域在化學(xué)性質(zhì)的不同，選擇性的保留曝光區(qū)域或者未曝光區(qū)域，獲得所需的光刻膠結(jié)構(gòu)，是酸性光刻膠顯影的基本溶劑。Resist Developer RD6添加了少量表面活性劑減少倒線產(chǎn)生。
使用方法：
將顯影液倒入抗蝕劑顯影槽中。確定顯影劑的溫度正確。按照使用光刻膠技術(shù)信息中“處理”部分的說(shuō)明，通過(guò)浸泡或噴涂來(lái)顯影抗蝕劑。在去離子水中沖洗基材，直至水電阻率達(dá)到規(guī)定。
儲(chǔ)存:
確保工作間有良好的通風(fēng)、排氣裝置。
存放在通風(fēng)良好的地方。
避免陽(yáng)光直射。
放入密封的貯藏器。
建議在氮?dú)馓合聝?chǔ)存。
上一個(gè)產(chǎn)品：沒(méi)有了
下一個(gè)產(chǎn)品：S1800系列顯影液
