產(chǎn)品組分：
AlSc 8at%；AlSc 9.5at%；AlSc 9.6at%；AlSc 13at%；AlSc 15at%；AlSc 20at%；AlSc30at%；AlSc40at%；AlSc 9.6wt%；AlSc 13wt%
應(yīng)用說(shuō)明：
鋁鈧靶主要用于微型電機(jī)器件鍍膜。5G通信中的帶寬都在GHz范圍，明顯高于目前的蜂窩服務(wù)。這些更高的頻率使得使用體聲波（BAW）技術(shù)來(lái)開發(fā)新一代射頻濾波器成為必然。BAW濾波器是一種基于壓電的聲學(xué)諧振器，其頻率和帶寬由壓電元件的幾何形狀、壓電材料的特性、薄膜厚度以及相關(guān)電極的幾何形狀和特性決定。與傳統(tǒng)的聲表面波諧振器相比，薄膜體聲波諧振器具有更高的諧振頻率和品質(zhì)因子。
目前，薄膜體聲波諧振器常用的壓電材料有ZnO、PZT、AlN。其中，AlN與CMOS工藝的兼容性最好，而且AlN沒有工業(yè)界FAB廠擔(dān)心的Zn、Pb、Zr元素與其他元素結(jié)合的污染。近十年來(lái)，AlN壓電薄膜及其器件的制備技術(shù)不斷提高，成熟產(chǎn)品已應(yīng)用于通信領(lǐng)域。然而，摻雜Sc的AlN薄膜因其壓電性能的顯著提升而備受關(guān)注。
AlSc合金靶，通過(guò)濺射，濺射出靶表面的化學(xué)成分和相組成均勻一致，與N反應(yīng)沉積的AlScN薄膜也具有均勻一致的化學(xué)比和相組成。這確保了大規(guī)模生產(chǎn)中的工藝穩(wěn)定性，典型適用于工業(yè)大規(guī)模量產(chǎn)。
上一個(gè)產(chǎn)品：釩靶材&吸氣劑靶材（Getter target）
下一個(gè)產(chǎn)品：沒有了
