型號：
ZX-238
主要成分：
四甲基氫氧化銨 （TMAH） 2.38% CAS：75-59-2
原理與使用方法：
利用正性光刻膠的曝光區(qū)域的化學性質(zhì)上與未曝光的區(qū)域不同，曝光后的光刻膠薄膜在弱堿性溶液中的溶解速率呈兩三個數(shù)量級的提升，使得其快速溶解，而未曝光區(qū)域溶解速率極低得以保留。
根據(jù)顯影液接觸襯底的方式不同，分為浸泡顯影、旋噴顯影和浸潤顯影，可根據(jù)不同光刻膠厚度等因素來選擇。最佳顯影的時間取決于光刻膠類型、膠厚、曝光波長、烘烤溫度和顯影的工序，對膜厚小于2um顯影時間不大于2min，例如對于浸沒或攪動顯影的時間范圍在20-60s，不要超過120s。膜厚超過10um的膠層需要2-10min，膜厚達到100um的膠厚，顯影時間超過60min，更密集的噴淋式顯影要求的時間更短。
儲存:
儲存于陰涼、通風倉間內(nèi)。
遠離火種、熱源。
防止陽光直射。
保持容器密封。
應與酸類和金屬粉末等分開存放。
上一個產(chǎn)品：SU-8國產(chǎn)顯影液
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