型號(hào)：
NMP
主要成分：
N-甲基吡咯烷酮 99.5% CAS 872-50-4
原理與使用方法：
NMP是一種通用的偶極非質(zhì)子有機(jī)溶劑。由于它極性大、溶解性強(qiáng)、沸點(diǎn)高、凝固點(diǎn)低，加之本公司售賣的NMP具有高純度高品質(zhì)等特點(diǎn)，在電子信息領(lǐng)域可以用作清洗劑去除光刻膠和其他有機(jī)殘留物、lift-off工藝的剝離劑、抗蝕劑的稀釋劑、鋰電池制造中電解質(zhì)的常見溶劑、有效溶解聚酰亞胺（PI）前體等。
使用方法：
作為去膠劑常見的做法是級(jí)聯(lián)清洗。準(zhǔn)備三個(gè)清洗槽，第一個(gè)槽中幾乎完全去除光刻膠殘留物。將樣品轉(zhuǎn)移到第二個(gè)槽中清洗光刻膠殘留物，然后轉(zhuǎn)移到第三個(gè)槽中，最后用去離子水沖洗干凈。當(dāng)達(dá)到預(yù)定的溶解能力，將第一個(gè)槽中溶液丟棄，將第二個(gè)和第三個(gè)槽中溶液向上移動(dòng)一個(gè)位置。升高溫度（最高80℃），超聲/兆聲清洗能提高去膠效率。
儲(chǔ)存:
儲(chǔ)存于陰涼、通風(fēng)倉(cāng)間內(nèi)。
遠(yuǎn)離火種、熱源。
保持容器密封。
應(yīng)與氧化劑分開存放。
儲(chǔ)存間內(nèi)的照明、通風(fēng)等設(shè)施應(yīng)采用防爆型，開關(guān)設(shè)在倉(cāng)外。
禁止使用易產(chǎn)生火花的機(jī)械設(shè)備和工具。
定期檢查是否有泄漏現(xiàn)象。
灌裝時(shí)應(yīng)注意流速(不超過3m／s)，且有接地裝置，防止靜電積聚。
搬運(yùn)時(shí)要輕裝輕卸，防止包裝及容器損壞。
上一個(gè)產(chǎn)品：Futurrex配套去膠液
下一個(gè)產(chǎn)品：沒有了
